Öneriler

Günümüzde dokunmatik ekranlar, televizyon ekranları, otomobil camları, buzdolabı kapakları, ayakkabılar, koltuklar, halılar vb. gibi günlük hayatta kullanılan birçok eşyanın su itici özelliğe sahip olması için kaplamalar yapılmaktadır ve yüzeylerin kaplanması için değişik yöntemler mevcuttur. Su itici özellik kazandırmak için yapılan yöntemlerde gerçekleştirilen kimyasal işlemler çözücü kullanımı gerektirmektedir. Çözücü kullanımı ise doğrudan doğruya maliyet ve zaman kaybı olmakla birlikte çevreye zarar vermektedir. PECVD yöntemi ise vakum altında, tek bir adımda gerçekleşen prosestir ve çözücü gerektirmez. Böylelikle daha az maliyette, daha az zaman ve çaba harcayarak çevre dostu bir proses olan PECVD yöntemi ile çeşitli yüzeylere PHFBA filmleri kaplanarak su itici özellik kazandırılabilir.

HFBA monomeri düşük buhar basıncına sahiptir. HFBA monomer buharını, reaktör haznesine ulaştırabilmek için monomerin içinde bulunduğu reaktör kabını ekstra ısıtmaya gerek olmadığından dolayı daha az enerji kullanılarak kaplama yapma fırsatı verir. Bu yüzden PECVD yöntemi ile kaplama yapmak için HFBA gibi düşük buhar basınçlı monomerler kullanılabilir.

Kimyasal buhar biriktirme yöntemi ile elde edilen ince filmlerin çoğu fonksiyonel grup içeren akrilik bileşikleridir. Dolayısıyla, PECVD yöntemi ile elde edilecek yüzeylerin kaplanması için monomer olarak fonksiyonel grup içeren akrilik bileşikler tercih edilebilir.

Daha detaylı kinetik çalışmalar yapılarak, kaplamalara ait kinetik özellikler açığa çıkarılabilir, bu şekilde endüstriyel boyutta yapılacak çalışmalara yön verilebilir.

Düşük plazma güçlerinde, farklı kalınlıklara sahip filmler üretilerek, düşük plazma gücündeki kaplama kalınlığının, filmlerin hidrofobikliğine etkisi incelenebilir.

Diğer parametreler sabit tutularak (substrat sıc., plazma gücü vb. ) farklı reaktör basınçlarında kaplamalar yapılarak, basıncın filmlerin kimyasal ve morfolojik yapısına etkisi incelenebilir.

KAYNAKLAR

Alf, M. E., Asatekin , A., Barr M. C., Baxamusa S. H., Chelawat, H., Ozaydın-Ince, G., Petruczok, C. D., Sreenivasan, R., Tenhaeff , W. E., Trujillo, N. J., Vaddiraju, S., Xu, J., Gleason, K. K., 2010, Chemical Vapor Deposition of Conformal, Functional and Responsive Polymer Films, Advanced Materials, 22, 1993-2027 Asatekin, A., Barr M. C., Baxamusa, S. H., Lau K. K. S., Tenhaeff, W., Xu J., Gleason,

K. K., 2010, Designing Polymer Surfaces Via Vapor Deposition, Materials

Today, 13(5), 26-33

Barthlott, W., Neinhuis, C., 1996,Purity of the sacred lotus or escape from contamination in biological surfaces, Planta (1997) 202: 1-8,

Beamson, G., Briggs D., 1993, High Resolution XPS of Organic Polymers: the Scienta ESCA300 Database, Wiley Chichester, UK, 28-51

Bhushan B., Jung Y. C., 2011, Natural and biomimetic artificial surfaces for superhydrophobicity, self-cleaning, low adhesion, and drag reduction, Progress in

Materials Science 56 (2011) 1–108

Bixler G. D., Bhushan B., 2012, Bioinspired rice leaf and butterfly wing surface structures combining shark skin and lotus effects, Soft Matter, 11271–11284 Bormashenko E., 2014, Progress in understanding wetting transitions on rough surfaces,

Advances in Colloid and Interface Science, 2-3

Bunshah, R. F.,2001, Handbook Of Hard Coatıngs, Deposition Technologies, Properties and Applications, Noyes Publıcatıons, Park Ridge, New Jersey, U.S.A., 66-70 Chan, K., 2005, Initiated Chemical Vapor Deposition of Polimeric Thin Films:

Mechanism and Applications, Doktora, Massachusests Instıtıte Of Techonology, Massachusetts, 18-25

Chan, K., Gleason, K. K., 2005, Initiated CVD of Poly(methyl methacrylate) Thin Films, Chemical Vapor Deposition 2005, 11, 437-443

Coclite, A., M., Gleason K., K., 2012, Initiated PECVD of Organosilicon Coatings:A New Strategy to Enhance MonomerStructure Retention, PlasmaProceses

andPolymers2012,9,425–434

Corp, D., Yasuhıro, N., Shujı, O., Masakatsu M., Yujı, I., Kojı, I., 2005, Impedance Matching Device Provided With Reactance-impedance US6946847 (B2), Abstract Coulson S. R., Woodward I. S., Badyal J. P. S., 2000, Ultralow Surface Energy Plasma

Polymer Films, Chem. Mater.,12(7),2000, 2031-2038

Denes, F. S., Manolache S., 2004, Macromolecular plasma-chemistry: an emerging field of polymer science, Progess in Polymer Science, 29 (2004) 815–885

Feng, L., Li S., Li Y., Li H., Zhang, L., Zhai, J., Song, Y., Liu, B., Jiang, L., Zhu, D., 2002, Super-Hydrophobic Surfaces: From Natural to Artifical, Advanced Materials, 14(24), Abstract

Goldston, R. J., Rutherford, P. H., 1995, Introductıon To Plasma Physıcs, Taylor &

Francis Group, LLC, New York, U.S.A., 1-2

Guo, Z., Liu, W., Su, B., Su, L., 2011, Superhydrophobic Surface:From natural to biomimetic functional, Journal of Colloid İnterface Science, 353(2011), 335-355 Gupta, M., Gleaon, K. K.,2006, Mechanistic Study of the İniated Chemical Vapor

Deposition (iCVD) of Poly (1H, 1H, 2H, 2H- Perfluorodecyl Acryalate) (PPFDA) Thin Films, Langmuir, 22, 10047-10052

Hansen, N. M. L., Jankova K., Hvilsted, S., 2007, Fluoropolymer materials and architectures prepared by controlled radical polymerizations, European Polymer

Journal 43 (2007), 255–293

Hilton, G., Lewis, P., Casserly, T. B., Gleason, K. K., 2001, Hot-Filament Chemical Vapor Deposition of Organosilicon Thin Films from Hexamethylcyclotrisiloxane andOctamethylcyclotetrasiloxane, Journal of Electrochemical Society, 148(12), F212-F220

Hoefnagels H. F., Wu D., With G., Ming W., 2007, Biomimetic Superhydrophobic and Highly Oleophobic Cotton Textiles, Langmuir, 2007, 23(26), 13158-13163

Huang, C., Ma, W. C., Tsai, C. Y., Hou, W. T., Juang, R. S., 2013, Surface modification of polytetrafluoroethylene membranes by radio frequency methane/nitrogen mixture plasma polymerization, Surface & Coatings Technology 231 (2013), 42–46

Hynes A. M., Shenton M. J., Badyal J. P. S., 1996, Pulsed Plasma Polymerization of Perfluorocyclohexane, Macromolecules 1996, 29(12), 4220-4225

Karaman, M., Çabuk, N., 2012, Initiated chemical vapor deposition of pH responsive poly(2-diisopropylamino)ethyl methacrylate thin films, Thin Solid Films 520 (2012) 6484–6488

Lau, K. K. S., Bico, J., Teo, K. B. K., Chhowalla, M., Amaratunga,G. J. A., Milne, W. I., McKinley, G. H., Gleason, K. K., 2003, Superhydrophobic Carbon Nanotube Forests, Nano Letters, 3(12), 1701-1705

Lau K. K. S., Gleason K. K., 2000, Pulsed plasma enhanced and hot filament chemical vapor deposition of fluorocarbon films, Journal of Fluorine Chemistry 104 (2000) 119-126

Li, K., Wu, P., Han, Z., 2002, Preparation and surface properties of fluorine-containing diblock copolymers, Elseiver, Polymer 43 (2002) 4079-4086

Lin-Vien D., Colthup N. B., Fateley, W. G., Graselli, J. G., 1991, Infrared and Raman Characteristic Frequencies of Organic Molecules, 0-12-451160-0, Acedemic

Press, 40-42

Lobato, E. M. C., 2004, Determination of Surface Free Energies And Aspect Ratio of Talc, Virginia Polytechnic Institute and State University Department of Materials Science and Engineering, Blacksburg, Virginia, 67-70

Lopes D. M., Ramos S. M. M., Oliveira L. R., Mombach J. C. M., 2013, Cassie–Baxter to Wenzel state wetting transition: a 2D numerical simulation, RSC Advances, 2013, 3, 24530–24534

Ma, M. Gupta M., Li, Z., Zhai L., Gleason, K. K.,Cohen, R. E.,Rubner, M. F., Rutledge, G. C., 2007, Decorated Electrospun Fibers Exhibiting Superhydrophobicity,

Advanced Materials, 19, 255-259

Mahriah, E. A., Asatekin, A., Barr, M. C., Baxamusa ,S. H., Chelawat, H., Ozaydın- Ince, G., Petruczok, C. D., Sreenivasan, R., Tenhaeff, W. E., Trujillo, N. J., Vaddiraju, S., Xu, J., Gleason, K. K., 2010, Chemical vapor deposition of conformal, functioanal and responsive polimer films, 22, 1993-2027

Manos, D. M., Flamm, D. L., 1989, Plasma Etching An Introduction, Academic Press,

Inc.,San Diego, U.S.A., 14-15

Martin T. P., Lau K. K. S., Chan K., Mao Y., Gupta M., O'Shaughnessy W. S., Gleason K. K., 2007, Initiated chemical vapor deposition (iCVD) of polymeric nanocoatings, Surface&Coatings Technology, 201 (2007) 9400–9405

Ohring, M., 1992, The Materials Science of Thin Films, Acedemic Press, San Diego California, 147-191

Özgür H., Gemici Z., Bayındır M., Nisan 2007, Akıllı Nanoyüzeyler, Bilim ve Teknik, 53-56

Park, J. H., Sudarshan, T.S., 2001, Chemical Vapor Deposition, Surface Engineering Series Volume 2, ASM International, United States of America, 81, 205, 217, 287 Pierson, H. O., 1999, Handbook Of Chemıcal Vapor Deposıtıon (CVD) Principles,

Technology, and Applications Second Edition, Noyes Publications, Park Ridge, New Jersey, U.S.A., 25-141

Powel, J. C., 2003, XPS Database-SRData at NIST [online], U.S. Secretary of Commerce on behalf of the United States of America, National Institute of Standards and Technology (NIST)

Roth, J. R., 1995, Industrial Plasma Engineereing Volume 1 Principles, Institute of

Physics Publishing,Philadelphia,USA, 151-152, 391-392

Sreenivasan R., Gleason K. K., 2009, Overview of Strategies for the CVD of Organic Films and Functional Polymer Layers, Chemical Vapor Deposition 2009, 15, 77–90

Teare D. O. H., Spanos C. G., Ridley P., Kinmond E. J., Roucoules V., Badyal J. P. S., 2002, Pulsed Plasma Deposition of Super-Hydrophobic Nanospheres, Chem.

Mater. 2002,14, 4566-4571

Yao, X., Song, Y., Jiang, L.,2011, Applications of Bio-Inspired Special Wettable Surfaces, Advanced Materials, 23, 719-734

ÖZGEÇMĠġ KĠġĠSEL BĠLGĠLER

Adı Soyadı : Ezgi YENİCE

Uyruğu : TC

Doğum Yeri ve Tarihi : KOCAELİ/12.01.1991

Telefon : 05069152441

Faks : -

e-mail : ezgiyenice91@gmail.com

EĞĠTĠM

Derece Adı, Ġlçe, Ġl Bitirme Yılı

Lise : Muammer DERELİ AÖL, İzmit, Kocaeli 2008 Üniversite : Selçuk Üniversitesi, Selçuklu, Konya 2012 Yüksek Lisans : Selçuk Üniversitesi, Selçuklu, Konya

Ġġ DENEYĠMLERĠ

Yıl Kurum Görevi

2014-Halen Hayat Kimya San. A.Ş. Ar-ge Mühendisi

UZMANLIK ALANI

Kimyasal buhar biriktirme yöntemleri (iCVD, PECVD), Polimerik ince film kaplamalar

YABANCI DĠLLER

İngilizce (Üst düzey), Almanca (Başlangıç)

BELĠRTMEK ĠSTEĞĠNĠZ DĠĞER ÖZELLĠKLER -

YAYINLAR

The International Middle East Plasma Science (IMEPS)-„‟Synthesis and Characterization of Low-Surface Energy Poly-Hexafluoro Butyl Acrylate (PHFBA) Nanocoatings by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Method‟‟ adlı çalışmanın poster sunumu