Makale: Darbeli Manyetik Alanda Sıçratma İle Üretilen Neme Dirençli MoS Filmler

GİRİŞ

M

özellikleriyle tanınır ve esasen uzay ve vakum uygulamalarında kullanılırlar [1, 2]. Çoğunlukla sıçratma ile büyütülen filmlerdeki MoS tabakalarında x değeri 0.9 < x < 2.1 aralığında değişim gösterir [3]. Fakat çevresel şartlara, özellikle yüksek bağıl neme, bağlı olarak yağlama özelliği değişir [4]. Atmosfer şartlarında (örneğin kuru talaşlı imalatta) düşük sürtünme gösteren filmlere artan ilgi dikkate alınırsa, MoS ince filmler üzerine yapılan araştırmalar açık hava şartlarındaki özellikleri kararlı hale getirme üzerine yoğunlaşmıştır. Sıçratma ile büyütülen MoS filmlerin yapısı, kaplama şartlarına bağlıdır. Burada iki tip film yapısı karşımıza çıkar [1, 5]. 1. Tip olarak adlandırılan ilk film yapısı, taban malzeme yüzeyine dik yönlenme

sonucunda ortaya çıkan bazal düzlemlere sahip olup gözenekli ve kolonlu bir yapı gösterir. Bu yapıda reaktif kenar bölgeleri yani dış ortam ile etkileşime meyilli olmasından dolayı nemli havada MoO kolaylıkla oluşur ve bu da sürtünme özellikleri için zararlıdır (sürtünme özelliklerini kötüleştirir). 2. Tip olarak adlandırılan ikinci film yapısı ise taban malzeme yüzeyine paralel taban (basal) düzlemlere sahip olup bu yönlenme yağlamayı iyileştirir, ayrıca kayma düzlemlerinin doğrusal yönlenmesi de söz konusu olduğundan daha yoğun bir yapıya sahiptir. Bu yapı dolayısıyla hava ile ortaya çıkan oksidasyona karşı dayanıklıdır, çünkü dış ortamla etkileşmesi zordur.

DC manyetik alan ve aslında RF sıçratma, bu tabakaları büyütmek için kullanılmıştır [6-8]. Taban düzlem yönlenmesine sahip yapıları büyütmek, IBAD ve CFUBMS x

x

x

3

Üretilen Neme Dirençli MoS Filmler

x

ÖZET ABSTRACT

MoS iyi bir yağlayıcı olarak bilinir, fakat MoS ince filmlerin yağlama özelliği kaplama parametreleri ile, bilhassa yüksek bağıl nem şartlarında önemli ölçüde etkilenir. Bu çalışmada MoS filmler, çift kutuplu darbeli güç kaynağı kullanılarak manyetik alanda sıçratma ile büyütüldü. Argon basıncı, taban malzeme sıcaklığı, taban malzeme ön (bias) gerilimi, katot gücü ve kaplama süresi gibi birçok parametre değiştirildi. Kimyasal bileşim, yüzey şekilleri (morfoloji) ve yapısı, enerji dağılım analizi (EDS), Rutherford geri saçılma (RBS), taramalı elektron mikroskop (SEM) ve X ışını kırınım ölçer (XRD) gibi birçok yöntemle araştırıldı. Tribolojik özellikler, disk üzerinde küre (ball-on-disk) fretting cihazıyla tespit edildi. Sonuçlar, düşük argon basıncında (0.4 Pa'nın altında) ve düşük taban malzeme sıcaklığı (oda sıcaklığı)'nda üretilen MoS filmlerin düşük sürtünme katsayısı ve uzun aşınma ömrü sergilediğini göstermiştir. Bu filmler, çok düşük kükürt miktarına (genellikle x = 1.2 ~ 1.8 olarak belirtilen değerlerin aksine bu filmlerde x 1, hatta daha düşük), özelliksiz bir morfoloji ve güçlü (002) bazal düzlem kırınım pikine sahiptirler. % 90'a kadar bağıl nem, sürtünme katsayısı ve aşınma ömründe çok az bir etkiye sahiptir. Filmlerin yapısı, sürtünme ve aşınma mekanizması düşük kükürt miktarı açısından değerlendirildi.

MoS yağlayıcı filmler; darbeli sıçratma; sürtünme; aşınma

It is well known that MoS is a good lubricant, but the lubricity of MoS thin films is greatly affected by the deposition parameters, especially when used under environmental conditions of high relative humidity. In this work, MoS films were prepared by magnetron sputtering using a bipolar pulsed power supply. Several deposition parameters such as argon pressure, substrate temperature, substrate bias voltage, cathode power and deposition time were varied. Composition, morphology and structure were investigated by a number of techniques including energy dispersive spectroscopy (EDS), Rutherford back scattering (RBS), scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). Tribological properties were measured with a ball-on-disk fretting tester. The results show that MoS films prepared at low argon pressure (below 0.4 Pa) and low substrate temperature (room temperature) have a low friction coefficient and long wear life. These films have are remarkable low sulfur content (x=1 and even smaller, in contrast to frequently reported values of x = 1.2 ~ 1.8), a featureless morphology and only a strong basal plane (002) diffraction peak. The relative humidity, up to values of 90%, has only a small effect on the friction coefficient and wear life. The structure of the films and the friction and wear mechanism are discussed in view of the low sulfur content.

MoS lubricating films; pulsed sputtering; friction; wear

2 x x x x x x x x x »

Anahtar Kelimeler: _Keywords:

W. Lauwerens, Jihui Wang, J. Navratil, E. Wieers, J. D'haen, L. M. Stals, J. P. Celis, Y. Bruynseraede, Surface and Coatings Technology, 131, 13, 2000, 216221

Atatürk Üniversitesi, Makina Mühendisliği Bölümü

katkılarla, metal / MoS çok tabakalı bir yapı ile veya nano-kompozit yapı ile büyütülürler [9-12].

Bu makalede, çift kutuplu manyetik alanda sıçratma ile büyütülen MoS filmlerin özellikleri tartışılacaktır. Çift kutuplu manyetik alanda sıçratma genelde, metal hedeften sıçratma yapılırken hedefin reaktif gaz ile etkileşerek üzerinde yalıtkan film oluşumunu, yani “hedef zehirlenmesini” önlemek için kullanılır [13]. Öte yandan, (preslenmiş MoS hedef gibi) kötü bir iletken hedefin sıçratma işlemine tabi tutulması halinde, pozitif darbenin hedef yüzeyinde aşırı yüklenmeyi ortadan kaldıracağı ve böylece sıçratma sırasında ark ve mikro-arkları önleyeceği düşünülmektedir.

Filmler, dengesiz bir bobinle donatılmış düzlemsel bir manyetik alanda sıçratma sistemi ile büyültüldü. Hedefler darbeli güç kaynağı ile beslendi. Bunun için de, 33 kHz'e kadar çift kutuplu darbeler sağlayacak bir magpuls QP-1000 / 6/15 bp güç kaynağı kullanıldı. (-) ve (+) darbenin uzunluğu ayrı ayrı hesaplanabilir, fakat büyüklükleri eşittir. Darbeli

plazmada (-) darbe 40 ı.

Şekil 1'de darbeler çizgi şeklinde gösterilmiştir. MoS hedef 75 mm çapında ve % 99 saflıkta idi. Taban malzemeler ile hedef arasındaki uzaklık ise 65 mm idi. Taban malzeme olarak 25 mm çapında sertleştirilmiş ve parlatılmış (R =0.

çelik kullanıldı. Kaplama odasındaki basınç yaklaşık 10 Pa idi. Kaplama işleminden önce, numune sıçratma ile temizlendi ve hedef taban malzeme önünde bir kapak kullanılarak ön-sıçratmaya tabii tutuldu. Değiştirilen ana kaplama parametresi argon basıncı idi. Numuneler, P = 0.152.4 Pa arasında argon basınçlarında kaplandı. Ayrıca taban malzeme sıcaklığı (T < 80ºC ve T =

Volt) etkisi araştırıldı. Numunelerin çoğu, 8 W/cm ’lik bir hedef gücünde kaplandı, bunun yanı sıra 4 W/cm 'lik daha düşük ve 12 W/cm 'lik daha yüksek hedef güçlerinde de çalışıldı. Karşılaştırma yapmak için, birkaç numune, 8 W/cm 'lik DC güç kullanılarak kaplandı. Standart olarak kaplama süresi 14 dak içerisinde ve 8 W/ cm 'lik hedef gücünde yaklaşık 1.

ınlığına ulaşıldı.

Filmlerin yapısal analizi, CuK ı,

5000 kırınım ölçer ile yapılan XRD ölçümleriyle sağlandı. X parametresiyle belirtilen S/Mo oranı yani filmlerin kimyasal bileşimi, EDX ile tespit edildi. Molibdenin L enerji seviyesiyle kükürdün K enerji seviyesinin çakışmasından dolayı, EDX analizi RBS ile kontrol edildi. Bu çalışmada ayrıca silikon taban malzemeler üzerine de MoS filmler büyütüldü. Elde edilen sonuçlar, deneysel hatalar içermekteydi. Derinlik ölçümü ve yapı içerisinde bulunabilecek kirlenmelerin tespiti için XPS kullanıldı. Tabakaların morfolojisini tanımlamak için de SEM kullanıldı. Sürtünme ve aşınma özelliklerini belirlemek için yağsız temas şartlarında, 23ºC hava atmosferinde ve < % 10, % 50 ve % 90 bağıl nemlerde fretting testleri yapıldı (test cihazını ayrıntılı görmek için [14]'e bakınız). Karşı çift olarak 10 mm çaplı ve R = 0. üzey pürüzlülüğüne sahip korondum bilyeler kullanıldı. Titreşim frekansı 10 Hz ve doğrusal yer değiştirme mesafesi 100 alındı. Normal yük olarak 1 N ve 30 000 çevrimlik test süresi uygulandı. Hacimsel aşınma, önceki literatürde [15] tanımlanan prosedüre göre, bir lazer profilometreyle aşınma izi taranarak ölçüldü.

Şekil 2'de seçilen örnek bazı numunelerin XRD grafiği verilmiştir. (a) eğrisi düşük basınç (P 0.4 Pa) ve düşük taban malzeme sıcaklığındaki filmlerden elde edilen neticedir. Spektrum sadece güçlü (002) pikini göstermektedir. Bu, taban (basal) düzlemlerin taban yüzeye paralel yönlendiğinin göstergesidir. Daha yüksek kaplama basınçlarında (0.9 Pa) (b) eğrisinde olduğu gibi (100), (101) ve (110) düzlemleri ortaya çıkmıştır. Görüldüğü üzere, 1.5 Pa ve daha yüksek Ar basınçlarında (002) yansıması azalmış, diğer yansımalar artmıştır. O halde bu yapı içerisindeki taban düzlemlerin hem paralel hem de dik yönlenmeleri olduğu söylenebilir. İlave Ar bombardımanı (- ön gerilim), (c) eğrisinde görüldüğü gibi sadece (101) ve (100) yansımaların yoğunluklarında açık bir azalma olduğu da dikkati çekmektedir. (d) eğrisi DC güç kaynağıyla kaplanmış filmden alınmıştır. (a) eğrisinden elde edildiği film ile aynı kaplama şartlarında üretilmiştir. Gerçek şu ki, (a) eğrisinin aksine (d)'de (101) ve (110) yansımaları x x 2 2 a Ar s s x a Ar μs'ye, (+) darbe ise 10 μs'ye ayarland

05 μm) 440C paslanmaz 5 μm'lik bir film kal α radyasyon kaynakl θ-2θ geometrisinde, Siemens D 2 μm y μm -3 2 2 2 2 2 £

DENEYSEL

SONUÇLAR

(+) Darbe

(-) Darbe

Süre (*10-6s)

Akım

üretilen filmlerde elde edilen (e) eğrisinde bazal düzlemlerin dik olarak yönlenmesinin hâkim olduğu açıktır. Şekil 3'te farklı film morfolojisine yer verilmiştir. Şekil 3(a)'de SEM resmi MoS filmlerin genel yapısını göstermektedir. Gözenekli ve kolonlu bir yapı hâkimdir. Bu morfoloji, aslında yüksek argon basıncı (P > 1Pa) ve yüksek taban malzeme sıcaklıklarında kaplanmış filmlerde gözlendi. Şekil 3(b)'de orta basınçlarda (0.4 < P < 1 Pa) büyütülen filmler olup karnabahara benzer bir yapı gösterir ve daha az gözeneklidir. Şekil 3(c) ise yoğun ve özelliksiz bir morfolojiyi göstermektedir. Bu morfolojiye sahip filmler, 0.4 Pa'nın altında ve düşük taban malzeme sıcaklıklarında elde edildi. Şekil 2'deki XRD grafiğindeki (a) eğrisi, taban düzlemlerin paralel yönlendiğini ispatlamıştı, dolayısıyla ortaya çıkan resim XRD sonucuyla örtüşmektedir. Ayrıca bu filmler, diğer filmlerdeki gri görünümün aksine parlak metal görünümüne sahiptirler. Bu parlak görünüm, ayrıca diğer araştırmacılar tarafından da bahsedilmiştir [16].

Filmlerin çoğunun kimyasal bileşimi, 1.2-1.5 arasında bir x (yani S/Mo) oranıyla karakterize edildi. Düşük Ar basıncı ve (-) gerilimde büyütülen filmlerde x değeri küçük iken, yüksek basınç ve yüksek taban malzeme sıcaklığında büyütülen filmlerde x fazlaydı. Fakat 0.8-1 arasındaki düşük x değerleri sadece taban düzlem yönlenmesine sahip filmlerde olduğu görüldü (Şekil 2, (a) eğrisi).

XPS ölçümleri, oksijen ve karbon elementlerinin var olduğunu ortaya çıkardı. Buna göre % 3-5 O ve % 5-8 C mevcuttu. Derinlik profilometresi, kimyasal bileşim ve kirlilik seviyesinin film kalınlığı boyunca sabit olduğunu gösterdi. Kirlilik seviyesinde sistematik bir eğilim görülmedi. O ve C kirlenmelerinin genelde % 5-15 olduğu belirtilmektedir [17].

Şekil 4, iki bağıl nem değerinde 0 ve 100 V ön geriliminde, kaplama basıncının bir fonksiyonu olarak ortalama sürtünme katsayısını göstermektedir. Görüldüğü gibi, < % 10 bağıl nemde sürtünme katsayısı hemen hemen sabitlenmiştir. % 50 bağıl nemde sürtünme katsayısı, kaplama basıncının azalması ile düşmüş ve 0.4 Pa değerinde minimum seviyeye ulaşmıştır. Kaplama sırasında (-) ön gerilim, sistematik olarak sıfır ön gerilim veri noktalarının altında sürtünme katsayıları vermiştir. Düşük basınçta (0.4 Pa), ön gerilimli durum ile ön gerilimsiz durum arasındaki fark yok olmuştur.

Şekil 5'te fretting çevrimlerinin bir fonksiyonu olarak x

Ar

Ar

Sürtünme ve Aşınma Özellikleri

Şekil 3. Üç Tür Morfoloji Gösteren Yüzey SEM Görüntüleri: (a) Solucanımsı, (b) Karnabaharımsı, (c) Özelliksiz. Şekil 2. 8 W/cm 'de Büyütülen Bazı Filmlerin XRD Grafikleri ve

(a) P = 0,4 Pa, Ts < 80ºC, V = 0 V ; (b) P = 0,9 Pa, Ts < 80ºC, V = 0 V ; (c) V = -100 V haricinde (b) ile aynı şartlar ; (d) (a) ile aynı, fakat DC güç kullanılmış ; (e) P = 1,6 Pa, Ts = 300ºC, VB = 0 V. Oklar 2H MoS 'nin (hkl) yansımalarını göstermektedir.

2 Ar B Ar B 2 Ar B

sürtünme katsayısı iki film için verilmiştir. Şekil 5(a)'daki film, 0.4 Pa, düşük taban malzeme sıcaklığı ve 0 ön gerilimde kaplanmış tipik bir film yapısı gösterir (Şekil 2(a)'daki XRD ve Şekil 3(c)'deki morfoloji). <% 10 ve % 50 bağıl nemlerde, sürtünme katsayısı pratik olarak aynıdır ve 0.04-0.08 arasında değişir. % 90 bağıl nemde sürtünme katsayısı biraz daha yüksek olmasına rağmen yaklaşık 0.12 gibi nisbeten düşük bir değerde kalır. Şekil 5(b), farklı bir durum göstermektedir.

Özellikle % 50 bağıl nemde sürtünme katsayısı yaklaşık 0.3'lük bir değere hızlı bir şekilde yükselir.

Şekil 6, fretting testinden sonra ölçülen Şekil 5'tekine benzer filmlerdeki aşınma hacmini göstermektedir. Çift darbeli (bipulsed) güçle üretilen film, < % 10 - % 50 bağıl nemdekine hemen hemen benzer olan düşük bir aşınma ömrü sergilemekte ve % 90 bağıl nemde 3. dereceden bir faktörü olarak artmaktadır. DC güç ile üretilen film ise, < % 10 bağıl nemde düşük bir aşınma hacmi göstermesine rağmen % 50 bağıl nemde çok yüksek bir aşınma hacmi verir.

Düşük Ar basıncında ve düşük taban malzeme sıcaklığında, ayriyeten bazı deneyler yapıldı. Kaplama gücü, 8 W/cm 'den 4 W/cm 'ye indirildiğinde, filmlerin özellikleri değişmedi. Fakat 12 W/m 'ye artırıldığında, neme daha az dirençli filmler oluştu. Bunun sebebi, muhtemelen yüksek güçte hedeften çıkan su buharı miktarının yükselmesidir. Kaplama sırasında su buharının mevcudiyetinin, özellikleri büyük ölçüde değiştireceği bilinmektedir [18]. Ayrıca film özellikleri 0.153 ındaki kalınlıklarda film kalınlığından bağımsız oldu.

Kaplama parametrelerinin fonksiyonu olarak tanımlanan eğilimlerin çoğu belirtilmiştir. Genellikle yüksek kaplama basıncı (P > 1Pa) ve/veya taban malzeme sıcaklığında, taban düzlemlere dik yönlenmeye sahip lamelli bir yapı ortaya çıkar [19]. Kaplama sırasında basınç düşürülürse, Şekil 3b ve Şekil 4 (aynı zamanda [6]'da) belirtildiği gibi, film yoğunluğunda derece derece bir artış olacaktır. Kaplama basıncının düşmesi ile % 50 bağıl nemde sürtünme katsayısının azalması, daha yoğun bir yapı olarak açıklanabilir ve bu da sürtünme özellikleri açısından zararlı olan nemli hava giriş ihtimalini azaltır. Şekil 4'te görüldüğü gibi, düşük P ’de daha yoğun yapı,

2 2 2 μm aras Ar Ar

TARTIŞMA

Şekil 5. Farklı Nem Seviyelerinde Fretting Çevrimlerinin Bir Fonksiyonu Olarak Sürtünme Katsayısı; (a) En İyi Özelliklere Sahip Film, (b) ise (a) ile Aynı Şartlarda, Fakat DC Güçle Üretilen Film. % 90 Bağıl Nemde DC Filmin Ömrü 30 000 Çevrimden Düşüktü.

0.40 Pa, Çift darbeli güç

0.40 Pa, DC güç

0.40 Pa, Çift darbeli güç

Çevrim S ü r tü nm e k ats ayı sı S ü r tü nm e k ats ayı sı

Şekil 6. Şekil 5'teki iki Film İçin Farklı Bağıl Nemlerde Elde Edilen Aşınma Hacimleri Aşın ma ha cmi (* 1 0 -18 m 3 ) Bağıl nem

Şekil 4. Kaplama Sırasında Ar Basıncının ve Bias Geriliminin Bir Fonksiyonu Olarak Ortalama Sürtünme Katsayısı

Basınç (Pa)

Sürt

ünm

e

ka

ts

ay

ıs

ı

prensipleriyle uyum içerisindedir. Düşük basınçta, serbest yol uzunluğu daha büyük ve bu nedenle sıçratmaya tabii tutulmuş numuneler taban malzemeye ulaştığında daha az termalize (enerjilerini kaybederler) olurlar. Giren parçacıkların yükselen enerjisi, ayrıca S'nin tercihli olarak yeniden sıçratılmasından dolayı bu filmlerdeki daha düşük S içeriğiyle açıklanabilir. P < 0,04 Pa'da yapı, güçlü taban düzlem yönlenmesine sahip çok yoğun bir yapıya ve parlak bir görünüme sahiptir. Bu düşük kaplama basıncında [5, 6, 16, 20] diğerleriyle elde edilen sonuçlarla örtüşmektedir. Fakat bu çalışmada (0.8-1) olarak elde edilen x değeri önce rapor edilen değerlerden daha düşüktür ve yaklaşık 1'den düşük x değerlerinin, amorf yapıyla benzeştiği beyan edilmiştir, buradaki durum bundan farklı değildir (Şekil 2, a eğrisi).

Şekil 2a'daki XRD grafiği, Müller ve arkadaşları tarafından kaydedilen spektrumları çok iyi açıklamaktadır. Müller ve arkadaşları, düşük basınçta (0.1 Pa) kaplanmış kalın ve yoğun yapılı filmler için turbostatik bir yapıyı dile getirdiler. Bu yapı yüksek yoğunluk ve taban düzlem yönlenmesine sahip IBAD kaplanmış filmler için, kaynak [21]'de de dile getirilmiştir. Turbostatik ya da nerdeyse gelişigüzel tabakalı yapı (NRLS), taban malzemeye dik eksen çevresinde kristalitlerin gelişigüzel dönme pozisyonuyla karakterize edildi. Elde ettiğimiz çok yoğun ve düşük S içerikli filmlerin yapısının, düşük S içeriğine sahip bileşimde bir nebze daha açıklayan bu yapı ile tanımlanabilineceğine inanıyoruz.

Çift kutuplu darbeli güçle büyütülen filmlerin, % 90 bağıl neme kadar (Şekil 5a) nemli şartlarda elde edilen düşük sürtünme katsayısı ve iyi aşınma direnci, ortaya çıkan çok yoğun ve düşük S içeriğine sahip yapıyla ilişkilendirilmiştir. Fakat, Şekil 4'te 0.4 Pa'daki minimum, daha düşük basınçlara gidilebileceğini ve S içeriği azaldıkça sürtünme katsayısının azalacağını ifade etmekte ve bu da optimal bir x değeri olduğunu işaret etmektedir. Darbeli güçle (Şekil 6) büyütülen filmin aşınma hacmi, bize göre mükemmeldir. Çünkü böyle yüksek seviyede verilere ulaşan yayınlanmış bir literatür olmadığı için, ancak Müller ve arkadaşlarının [6] verileriyle kıyaslama yapılabilir. Onlar, < % 5 -98 bağıl neme kadar nem yükselirse, aşınma oranının 17 kat artacağını söylediler, biz de % 90 bağıl nem için 3 kattan daha fazla bir değere tekabül edeceğini söylüyoruz.

Kayda değer elde edilen sonuç, DC güçle kaplanmış filmlerin ö z e l l i k l e r i d i r. D i ğ e r y a y ı n l a n m ı ş d e ğ e r l e r l e karşılaştırıldığında çok anormal olmasa da, darbeli güçle üretilen bir film için sürtünme ve aşınma özellikleri daha yüksektir. Kaynak [16]'da DC manyetik alanda sıçratma ile büyütülen yoğun ve sıkı filmler için, % 60 bağıl nemde 0.2'lik bir sürtünme katsayısının elde edildiği belirtilmiştir. Şu an

yeterli bir açıklama yapamıyoruz ve DC'den darbeli güce geçerken kaplama prosesindeki önemli değişimlerin olup olmadığını açıklamak için birçok araştırma yapılmasına gerek vardır.

Darbeli manyetik alanda sıçratma ile büyütülen MoS ince filmler, çok iyi sürtünme ve aşınma özellikleri gösterirler. Ayrıca nemli havada da bu özellikler sağlanır, bu nedenle neme dirençli olarak kabul edilirler. Güçlü düzlem yönlenmeli çok yoğun bir yapı gösterirler. Aynı kaplama şartlarında DC güçle kaplanmış filmler daha zayıf tribolojik özellikler gösterir. Her iki kaplama işlemi arasındaki farklar iyice anlaşılırsa, darbeli güçle üretilen filmlerde daha fazla ilerleme kaydedilebilir. Ar

x

Technol. A5 (1987) 212.

P.D. Fleischauer, Surf. Coatings Technol. 54/55 (1992) 435.

Rcichelt, Thin Solid Films 12 (1985) 79.

Thin Solid Films 228 (1993) 257. Surf. Coatings Technol. 68/69 (1994) 433.

Hintermann, Surf. Coatings Technol. 36 (1988) 351.

Roberts, Tribol. Trans. 31 (1988) 239. J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 212.

Singer, Surf. Coatings Tech-nol. 52 (1992) 93.

Hampshirc, V. Fox, V. Bellido-Gonzales, Surf. Coatings Technol. 94/95 (1997) 572.

Res. 13 (4) (1998)1022.

Surf. Coatings Technol. 108/109(1998)345.

Surf. Coatings Technol. 98 (1998) 823.

Roos, Tribol. int. 28 (5) (1995) 269. Wear 174 (1994)47. Ph. Renaux, Surf. Coatings Technol. 41 (1990) 127. Coatings Tech-nol. 68/69 (1994) 439. 114 (1987) 263. Coatings Technol. 53 (1992) 13. Gos-set, Surf. Coatings Technol. 46 (1991) 207.

Res. 13 (1998) 3001.

SONUÇ

KAYNAKÇA

1. T. Spalvins, J.Vac. Sci. 2. M.R. Hilton,

3. H. Dimingen, H. Hübsch, P. Willich, K. 4. J. Moscr, F. Lcvy,

5. F. Lcvy, J. Moscr,

6. C. Müller, C. Mcnoud, M. Maillat, H.E. 7. E.W.

8. T. Spalvins,

9. L.E. Scitzman, R.N. Bolster, I.L. 10. D.G. Teer, J.

11. M.R. Hilton, G. Jayaram, D.L. Marks, J. Mater. 12. R. Gilmore, M.A. Baker, P.N. Gibson et al., 13. R.A. Scholi,

14. H. Mohrbachcr, J.P. Celis, J.R.

15. P. Campbell, J.P. Celis, J.R. Roos, O. Van Der Biest, 16. A. Aubert, J.Ph. Nabot, J. Emouit,

17. G. Jayaram, N. Doraiswamy, M.R. Hilton, Surf. 18. V. Buck, Wear

19. M.R. Hilton, R. Bauer, S.V. Didziulis, M.T. Dugger, J.M. Kcem, J. Scholhamcr, Surf.

20. R.N. Bolster, I.L. Singer, J.C. Wegand, S. Faycullc, C.R. 21. D.N. Dunn, L.E. Seitzman, I.L. Singer, J. Mater.