2.1. Giriş
2.3.2. Zirkonya (ZrO 2 )
Zirkonya üç kararlı faza sahiptir. 2370 oC`nin üzerinde kübik (k) formu, 2370°C–
1170°C arasında tetragonal (t) formu ve 1170 °C`nin altında monoklinik (m) formu kararlı haldedir. Tetragonal yapıdan monoklinik yapıya geçiş %6,5 mertebesinde bir hacim genleşmesi ile sonuçlandığından teknolojide sorun yaratmakta ve bu faz dönüşümü sonucu seramik malzeme genellikle hasara uğramaktadır [13]. Bu durumu
önlemek ve yapıyı daha düşük sıcaklıklarda ve kübik yapıda kararlı kılmak amacıyla
zirkonyaya CaO, MgO, Y2O3 ve CeO2 gibi çeşitli stabilizatör oksitler ilave edilir. Bu
tip malzemeler kübik stabilize zirkonya (CSZ) olarak bilinirler. Kübik yapıyı kararlı kılmak için kullanılan bu oksit ilaveler faz dönüşüm sıcaklıklarını düşürürler ve böylece kübik ve monoklinik (veya tetragonal) fazlarının karışımından oluşan malzemeler üretilebilir [4].
Uygun stabilizatörlerin ilavesi ile iki tip zirkonya elde edilir. Bunlardan birisi MgO
ve CaO ilaveleri ile elde edilen kısmen stabilize zirkonya (PSZ), diğeri ise Y2O3 ve
CeO2 ilaveleri ile elde edilen tetragonal zirkonya polikristal (TZP) dir. TZP`ler ince
taneli ve tek fazlı malzemelerdir. Tane büyüklüğü, Y2O3 içeriğine ve malzemenin
yoğunluğuna bağlı olarak 0,1–1 µm arasında değişir. Sinterleme tetragonal alanda
(1300–1500°C) yapılır. FSZ (Y2O3 ile tamamen stabilize edilmiş zirkonya)
seramikler, en tok ve en mukavemetli zirkonya seramikleridir. Bu seramiklerde ortaya çıkan problem ise nemli ortamlarda, orta sıcaklıklarda (200–400°C) t-m dönüşümüdür. Bu dönüşüm aşırı bir mukavemet azalmasına yol açmaktadır.
2.3.3. Bor nitrür (BN)
Bor nitrür, düşük reaktifliği ve birçok uygulama alanı olan inorganik bir malzemedir. Sentetik olarak elde edilen en sert malzemelerden bir tanesidir. Isıl, elektriksel, mekanik ve fiziksel özellikler gibi çok geniş malzeme özelliklerine sahip olması nedeniyle yaygın uygulama alanı bulmuştur. “Malzeme mühendisleri, çok çeşitli elektronik ve elektrik uygulamalarında yararlı olan, mükemmel bir ısıl şok özelliğine ilave olarak elektriksel yalıtkanlığın, yüksek ısıl iletkenliğin alışılmadık beraberliğini bor nitrürde bulmuşlardır” [5].
2.3.4. Alüminyum nitrür (AlN)
Alüminyum nitrür yüksek ısıl iletkenlik ve yüksek elektrik direncine sahip bir teknoloji seramiğidir. Bu özellikleri AlN malzemeleri yüksek güç elektronik modülleri için ana malzeme haline getirmiştir. AlN, bu uygulamalarda BeO`in yerini almaktadır. Bununla birlikte oldukça fazla toksik etkisinin olması üretimi ve
uygulamalardaki en büyük dezavantajıdır. AlN`ün sıvı alüminyum içindeki korozyon direnci de mükemmeldir [3].
Alüminyum nitrür termodinamik olarak silisyum nitrürden daha kararlıdır. Fakat rutubetle reaksiyona girme eğilimi fazla olduğundan geniş bir uygulama alanı bulamamıştır. Alüminyum nitrür ticari olarak genellikle alüminyumun doğrudan
nitrürlenmesi veya alüminanın (Al2O3) indirgenip daha sonra nitrürlenmesi ile
üretilmektedir [3].
2.3.5.Titanyum nitrür (TiN)
Titanyumla aynı özelliklerde üç nitrür vardır. Bunlar TiN, ZrN ve HfN`dür. Bu nitrürlerin her üçü de yüksek ergime sıcaklığına, yüksek sertliğe ve metalik yapılarından dolayı metalik iletkenlik özelliğine sahiptir. Bununla birlikte oksitlenmeye dirençleri çok zayıftır. TiN 700°C` ye kadar oksitlenmeye karşı dirençli
iken diğer iki nitrürün oksitlenme sıcaklığı 500°C` dir. N2 atmosferinde kararlı olan
bu nitrürlerden sadece TiN uygulama alanı bulabilmektedir. Bu nitrürler için en sık kullanılan üretim şekli elementin doğrudan nitrürlenmesidir[6].
2.3.6. Silisyum oksinitrür (Si2N2O)
Si2N2O yapısal bir malzeme olarak kullanımı için yeterli araştırması yapılmamış bir
refrakter malzemedir. İki ayrı teknikle elde edilmektedir. Yaygın olarak üretimi silisyum ve silisyum dioksit karışımının azot ortamında 1450 °C` de reaksiyonu
sonucu elde edilmektedir. İkinci üretim şekli ise silisyum nitrürün (Si3N4) ve
silisyum dioksitin yüksek sıcaklıklarda sıvı faz oluşturmaları ile elde edilmektedir.
İkinci reaksiyonda karışım numune için bir miktar Al2O3 katılarak Al2O3-SiO2
sistemde sıvı oluşumu amaçlanmaktadır [3]. 2.3.7. Silisyum karbür ( SiC )
Silisyum karbür mükemmel oksidasyon direnci, yüksek aşınma direnci, iyi bir ısıl iletkenlik, nispeten düşük ısıl genleşme katsayısı ve mukavemetini yüksek
sıcaklık-larda muhafaza edebilmesi gibi özellikleri nedeniyle önemli bir yapısal seramik malzemedir. Silisyum karbürün bağ yapısı, büyük oranda kovalenttir. İyoniklik derecesi %9–12 mertebelerindedir [4].
Farklı saflık derecelerinde, partikül boyutunda, şeklinde ve dağılımında SiC tozları hazırlamak için çeşitli yöntemler mevcuttur.
Silisyum karbür kübik (β) veya hegzagonal (α) kristal yapısıyla üretilebilir. Silisyum karbür esaslı seramikler sıcak preslenmiş (HPSC), reaksiyon-sinterlenmiş (RSSC),
kimyasal olarak buhar cöktürülmüş (CVD-SiC) ve SiC-fiber kompozitleri içerir.
Silisyum karbür seramikler yüksek sıcaklık uygulamalarında silisyum nitrür seramikler kadar ticari bir öneme sahip delillerdir ama daha düşük sıcaklıklarda aşınma uygulamalarında yaygın bir şekilde kullanılmaktadırlar. SiC gaz sobaları kurutucu ateşleyicilerinde uzun yıllardır kullanılmaktadır. Silisyum karbürlerin en önemli uygulama alanlarından birisi de ısı eşanjörleridir.
2.3.8. Silisyum nitrür (Si3N4)
Silisyum Nitrür tozları ileri teknoloji seramik hammaddelerinden birisidir. En önemli özelliği yüksek sıcaklıklardaki oksidasyona direnci, düşük yoğunluğa sahip olması, yüksek sıcaklıkta sertlik ve mukavemetini korumasıdır. Bu yüzden motorlardan, yüksek sıcaklık korozyonunun görüldüğü ortamlarda, yüksek sıcaklıklarda çalışan türbin elemanlarının ve rulmanların üretiminde ve de tornalamada takım ucu olarak kullanım alanları bulunmaktadır. 1970-1990 yılları arasında ortalama dünya üretimi
500 ton/yıl olan Si3N4 tozunun başlıca üreticileri A.B.D., Japonya, Almanya, İsviçre,
İngiltere ve Kanada`dır [7].
Silisyum nitrür, azot seramikleri içerisinde en yaygın kullanım alanı bulan mühendislik malzemelerden birisidir. 40 yılı aşkın bir süredir üzerinde yoğun çalışmalar yapılan bu malzemeyi mühendislik amaçlı uygulamalarda kullanılabilir kılan, mükemmel mekaniksel ve termal özelliklerdir. Si ve N atomları arasındaki
kuvvetli kovalent bağ mevcuttur. Sert ortam şartlarına ve ağır yüklere karşı metallerin ve polimerlerin kütü sonuç verdiği sıcaklıklarda dayanıklıdırlar [8].
Si3N4`ün bir mühendislik seramiği olarak önemi ilk defa 1957 yılında ortaya
konmuştur. Mekanik ve termomekanik özelliklerinden dolayı nitrür seramikler
içerisinde en fazla öneme sahip teknoloji seramiği Si3N4`dür. Üstün özelliklerinden
ve bu özelliklerini yüksek sıcaklıklarda da koruyabilmesinden dolayı Si3N4 seramik
malzemelerin kullanım alanları her geçen gün daha da artmaktadır [9]. 2.3.8.1. Silisyum nitrür`ün kullanım alanları
Silisyum nitrür (Si3N4), oksit dışı nitrür seramikler içerisinde yer alan üstün mekanik
ve termo-mekanik özellikleri olan bir ileri teknoloji seramiğidir. Sahip olduğu sertlik, aşınma direnci, düşük ısıl genleşme katsayısı ve mükemmel ısıl şok direnci gibi özelliklerinden dolayı özellikle yüksek sıcaklıklarda (yaklaşık 1800°C`a kadar) yüksek performans gerektiren uygulamalar için aranan bir malzeme konumundadır [8].
Silisyum nitrür seramiklerin uygulama alanları genel olarak üç bölüme ayrılmaktadır: a. Özel refrakter malzeme olarak kullanımı
b. Yüksek performanslı seramik malzeme olarak kullanımı c. Elektrik ve elektronik alanındaki uygulamaları
Si3N4 esaslı seramikler demir esaslı olmayan metallerce kolayca ıslatılamazlar. Bu
nedenle endüstride çok faydalı bir refrakter olarak alüminyum endüstrisinde, çeşitli tüplerin ve termokopul kılıflarının imalatında kullanılmaktadır. Yüksek sıcaklıklardaki uygulamalar için demir metalurjisinde belirli alanlarda kullanılmaktadır. Örneğin cüruf oluklarında refrakter olarak [9].
20 yıl öncesine kadar silisyum nitrür esaslı seramik ürünler için önemli bir ticari uygulama alanı olmamasına rağmen son 20–25 yıldır üzerinde en fazla araştırma yapılan malzeme durumuna gelmiştir. 1971 yılında A.B.D. Savunma Bakanlığı
tarafından geliştirilmesi istenen seramik motor programı için yukarıda belirtilen özellikleri nedeni ile uygun malzeme olarak seçilmiştir. Çalışmaların önemli bir kısmı, silisyum nitrür valfler, aşınma tamponları, piston pimleri, turbo-charger
pervaneleri üzerinde yoğunlaşmıştır[7]. Dizel motorlarda yoğun Si3N4 esaslı seramik
malzemeler fazla aşınmaya maruz kalan klasik çelik parçaların yerini almaya başlamıştır. Motorda düşük ısı kaybı için silindir gömleği ve piston başlığı gibi alanlarda denemeleri aktif olarak devam etmektedir. Yüksek performans gerektiren türbin kanatlarında düşük sürtünme katsayısından dolayı bilyalı rulmanlarda kullanılmaya başlanmıştır [9].
Metal işleme bileşenlerinde, tel çekme hadde makaraları, takım uçları, demir dışı ve kompozit malzemelerin işlenmesinde ve metal ergitme parçaları olarak kullanılmaktadır [7]. Ayrıca ısı kalkan plakaları ve ısı izoleli seramik tuğlalarda da kullanım alanı bulunmaktadır [10].
Tablo 2.3. Si3N4 seramiklerinin uygulama alanları [7]
Motor Parçaları Piston, Silindir Astarı, Bujiler, Ateşleyiciler,
Pervaneler, Vanalar Aşınmaya ve Korozyona
Dayanıklı Parçalar Yataklar, Patlama memeleri, Nozullar, Kimyasal Sıvı Pompalama Parçaları
Metal İşleme Bileşenleri Tel Çekme Hadde Makaraları, Çelik İşleme
Parçaları, Metal Ergitme Kılavuzları
Aletler Kesici Aletler Isı Kalkan Plakaları, Isı İzoleli
Seramik Tuğlalar.
2.3.8.2. Silisyum nitrür`ün fiziksel ve kimyasal özellikleri
Toz halinde üretilen Si3N4 malzemeler α ve β Si3N4 olmak üzere iki farklı polimorfik
yapıda kristalleşmektedir. Her ikiside hegzagonal kristal kafes yapısına sahiptir.
Uzun yıllar α-Si3N4, β-Si3N4` ün bir silisyum oksinitrürü olarak kabul edildi. Ancak
daha sonra α-Si3N4`ün gerçek bir poliform olduğu ve β-Si3N4 ile arasında 30 kj/mol
kadar bir entalpi farkı tespit edildi. α-Si3N4 yapısal olarak β-Si3N4`e çok
atomundan birinin yerini bir oksijen atomu almaktadır. Buna göre α-Si3N4`ün
kimyasal formülü Si11,4N15O0,3 den Si11,5N15O0,5 şeklinde değişim göstermektedir [3].
Fazların (α ve β), ikisi de altıgen kristal yapıya sahiptir. Fakat kristalografik
c-ekseninin yönü boyunca olan kafes uzaklığında farklılık gösterirler. α-Si3N4 artan
sıcaklıkla β-Si3N4`e dönüşür. Dönüşüm ve yüksek yoğunluk eldesi için sinterlemede
bir sıvı fazın varlığı gereklidir [11].
Si3N4` ün kristal yapısında, her bir Si atomu bir tetrahedronun ortasında ve her bir N
ise trigonalde ve üç silisyum atomuyla hemen hemen düzlemsel koordinasyondadır
(Şekil 2.1) ve böylece 3 Si3N4 tetrahedrasını bağlamaktadır (Şekil 2.2) [8].
Şekil 2.1. Si3N4 kristal yapısı [8].
2.3.8.3. α-Si3N4
Genel formülü Si12N16 şeklindedir. Düşük sıcaklık polimorfu olan bu faz 1400°C` ye
kadar kararlı yapıdadır. Karakteristik (001) düzlemli hegzagonal yapıya sahip, 3
boyutlu kovelen paylaşılmış ağ oluşturan Si3N4 tetrahedraları içerir. Si-N tabakaları
ABCDABCD… şeklinde bir dizilim gösterirler. β-Si3N4 ise ABAB... şeklinde bir
dizilim görülmektedir. Her iki polimorfta da AB tabakası aynı olmakla beraber,
c-kayma düzleminde hareketiyle ilgilidir. α-Si3N4`deki daha uzun dizilim nedeniyle bu polimorf daha sert bir yapıya sahiptir [8].
Her iki modifikasyon hegzagonal kristal yapıda olmasına rağmen, farklılık β-Si3N4`
ün SPH Latis`e sahip olmasından kaynaklanmaktadır. Dolayısıyla α-Si3N4 düşük
sıcaklıklarda β-Si3N4 ise yüksek sıcaklıklarda oluşmaktadır [7].
Şekil 2.2. Birbirlerine kenarlardan bağlı Si3N4 tetrahedralardan oluşan β-Si3N4 yapısı [7].
2.3.8.4. β-Si3N4
Genel formülü Si6N8 şeklindedir. 1400°C `ye kadar kararlı olan α-Si3N4, bu
sıcaklığın üzerinde β-Si3N4`e dönüşmektedir. β-Si3N4 tüm sıcaklıklarda kararlı olan
bir fazdır. Si ve N atomlarını içeren tabakalar yukarıda da belirtildiği gibi, ABAB...
şeklinde bir dizilim gösterirler. Her ne kadar α-Si3N4 kristal yapısı, β-Si3N4 göre daha
yüksek sertliğe sahip olsa da, β-Si3N4 mühendislik uygulamalarında daha fazla tercih
edilmektedir. Çünkü bu form, çubuksu mikroyapısı nedeniyle kendinden takviyelidir ve bu da tokluk ve mukavemet açısından önemlidir [8].
Her iki yapıda da yoğunluklar birbirine yakın olup (3.20 gr/cm3), α-Si3N4`den
β-Si3N4`e dönüşüm 1300–1450°C aralığında olmaktadır. β-Si3N4 yapı α-Si3N4 yapıya
göre daha kararlı olduğundan uygun şartlarda α-Si3N4`den β-Si3N4 yapıya dönüşüm
olurken tersi bir dönüşüm şimdiye kadar tespit edilememiştir [3]. 2.3.9. SiAlON seramikleri
Alüminasilikatlardan hazırlanan oksinitrit bileşenleri, Si-Al-O-N sisteminin sialon olarak adlandırılan fazlarıdır. Büyük bilimsel ve teknolojik ilgi sonucu meydana gelen sialonlar, O`-sialonlar, çok tipli sialonlar, vs. gibi fazlar bu sisteme aittir. β-sialonlar, örneğin; metal işlemesi için kesme aletleri üretimi, ekstrüzyon makineleri (kalıplar, boru tesisatları, kılavuzlar) için matrisler ve diğer bileşenler, gaz türbinleri için motor bileşenleri gibi teknolojik uygulamalarda en önemli fazlardır[12].
Silisyum nitrür ile SiAlON arasındaki ilişki bakırla pirinç arasındaki ilişkiye benzer. Saf bakır yumuşak ve mukavemeti düşürürken, %40 çinko ilavesiyle, bakır atomları yapıda herhangi bir değişim meydana getirmeksizin çinko atomlarıyla yer değiştirdiğinde, bakıra nazaran daha sert ve mukavemetli ve daha düşük sıcaklıkta eriyen dolayısıyla daha kolay üretilebilen bir alaşım oluşur [12]. SiAlON seramikler yüksek sertlik, yükseltilmiş sıcaklıklarda bile yüksek dayanıklılık, iyi korozyon direncine sahip malzemelerdir.
α-SiAlON, α -Si3N4 birim hücresi üzerine kurulu bir katı çözeltidir. Genel gösterimi M-Si-Al-O-N şeklindedir. Burada M, Li, Ca, Y ve Ce`den Lu` a kadar bütün nadir toprak elementlerini kapsamaktadır.
α -SiAlON`un birim hücresinde iki atomlar arası boşluk vardır ve bu boşluklara ilave atomlar girebilmektedir.
a)
b)
Şekil 2.4. Janecke prizmasını kullanarak M-Si-Al-O-N sisteminin ifadesi [13].
α-SiAlON da sıvı faz sinterlemesiyle yoğunlaşır ancak α-SiAlON` u basınçsız sinterlemeyle yoğunlaştırmak β-SiAlON` dan daha zordur ve çoğu zaman sıcak
presleme gerekebilir. α-SiAlON` un oluşumu sırasında metal katyonları yapıya girdiğinden, sıvı faz miktarında azalma görülür. Yoğunlaşmayı zor kılan bu özelliğidir. Ancak tane sınır fazını hemen hemen ortadan kaldıran bu özellik yüksek sıcaklık mekaniksel özellikleri açısından çok avantajlıdır [8].
β-SiAlON`lar atomik düzlemlerinden dolayı Si3N4`e benzer mekanik ve fiziksel
özelliklere sahiptir. Bunlar, yüksek mukavemet, düşük sürtünme katsayısı, yüksek aşınma direnci, yüksek sertlik, yüksek sıcaklıkta yüksek mukavemet, düşük genleşme katsayısı, yüksek termal şok direnci, yüksek oksidasyon ve korozyon direnci gibi özelliklerdir. Örneğin z = 3 olan β-SiAlON`larda termal genleşme
katsayısı a=2,7x10-6/°C olup, β-Si3N4` kinden (3.5x10-6/°C) daha düşüktür [13].
Si3N4 içerisine katkı elemanı olarak alümina (Al2O3) kullanıldığında alüminyum
atomları ile silisyum atomlarının ve oksijen atomları ile de azot atomlarının kısmen
yer değiştirdikleri (birbirinin yerini alabildikleri) görülmüştür. Yani β-Si3N4` lerde
yapısal bir bozulma olmadan Si3N4 ile Al2O3 arasında bir yer alan katı eriyik
meydana gelmiştir. Oluşan β-SiAlON`un genel formülü Si3N4` ün birim hücresi
(Si6N8) esas alınarak Si6-zAlzOxN8-z şeklinde oluşmuştur. β-SiAlON fazının
bileşiminde z değeri 0 ile 4,2 arasında değişebilmektedir. Formüldeki z silisyum atomları ile yer değiştirebilen alüminyum atomlarının sayısını göstermektedir. Bu bileşik kimya terminolojisinde oksinitrür olarak kabul edilmesine rağmen, genel olarak ticari kullanımda ve literatürde SiAlON olarak adlandırılmaktadır. β-SiAlON
yapısındaki seramik malzeme genellikle Si3N4, Al2O3 ve AlN veya Si3N4, SiO2 ve
AlN tozların karışımından üretilmektedir [9]. β -SiAlON` un z değeri arttıkça termal iletkenlik, termal genleşme katsayısı ve elastik modül azalır.
β-SiAlON` ların en başarılı uygulaması, yüksek sertlik, mukavemet, aşınma direnci, termal şok direnci ve termal stabilitesi nedeniyle metallerin işlenmesinde kullanılan kesici uçlardır. Refrakter endüstrisinde yüksek sıcaklıkta çeşitli korozif ortamlara dayanıklı ve termal kararlılıkları yüksek malzemelere olan ihtiyacın artması, ergimiş demirdışı ve demir esaslı metallere dirençli ve termal şok direnci oksit seramiklere (∆T~300°C) nazaran çok daha yüksek olan β-SiAlON` ların (∆T~900°C) refrakter malzeme olarak geliştirilmesine ve kullanımına neden olmuştur. Sialonlar çelik dahil
birçok ergimiş metale karşı dirençlidirler. Fakat cüruflardan etkilenirler. SiAlON`lar döküm ve metal püskürtme işlemlerinde kullanılan döküm kalıbı ve vakum kalıbı altında yapılan hassas dökümlerde kullanılan potaların üretiminde kullanılırlar. Ayrıca SiAlON bağlı silisyum karbür tuğlalar yüksek mukavemet ve alkali ortama dirençleri nedeni ile yüksek fırında SiC tuğlaların yerini almaktadır [13].
BÖLÜM 3. SERAMİKLERİN ŞEKİLLENDİRİLMESİ
3.1. Seramik Tozların Üretimi
İleri teknoloji seramiklerinin üretiminde safiyeti yüksek, çok ince ve homojen tozlara ihtiyaç vardır. Seramik tozların özellikleri, seramik üretiminin en kritik faktörlerinden birisidir. Mükemmel bir tozun saf, homojen, boyutunun da mikron altında ve dar bir dağılım aralığına sahip olması gerekir. Üstün kalitedeki ürünler için araştırmacılar çeşitli prosesler üzerinde çalışmaktadırlar. Bu prosesler arasında düşük sıcaklık yöntemleri (sol-jel, kimyasal buhar çöktürme, fiziksel buhar çöktürme vb.) ve yüksek sıcaklık yöntemleri (ısıl ayrıştırma, plazma ile sağlanan yüksek sıcaklıktaki gaz içerisinde gerçekleşen "buhar-fazı" reaksiyonları, yanma sentezi vb.) mevcuttur [3].
3.2. Şekillendirme Teknikleri
İleri teknoloji seramiklerin geleneksel yöntemler ile şekillendirilmesi mümkün değildir. Şekillendirme yönteminin seçiminde, üretilecek parçanın boyutları, miktarı ve fiziksel özellikler göz önüne alınır.
3.2.1. İzostatik presleme
Bu yöntemde, toz halindeki kütle veya tek yönlü kalıpta ön-şekillendirme yapılmış numune elastik bir kap içine konur ve normal hidrostatik basınç altında şekillendirilir. Yöntem yaş veya kuru olarak yapılabilir. Yaş metotda, seramik toz ile doldurulan ve sızdırmaz bir şekilde kapatılan elastik kalıp uygun bir yağ içine daldırılır ve basınç altında sıkıştırılır. Bu metot pratikte pek uygulanmaz. Kuru metotda ise lastik kalıp yüksek basınç üreten bir cihaza yerleştirilir. Kalıp açılarak
seramik toz yerleştirilir ve kalıp sızdırmaz bir şekilde kapatılır. Kalıbın her yönünden basınç uygulanarak şekillendirme yapılır. Bu metot yaş sisteme göre nisbeten seri imalat için daha uygundur [3].
İzostatik presleme ile elde edilen ürünler üniform ve az distorsiyonludur. Bu yöntem buji yalıtıcılarının kütle üretiminde ve yüksek voltaj cihazları için seramik üretiminde kullanılır. Tanelerin kontrolü ve basınç koşulları önemli teknik noktalardır [4].
3.2.2. Enjeksiyon kalıplama
Sürekli üretim halinde kullanılır. Üretim hızı yüksek olup maliyet düşüktür [1]. Karmaşık şekilli ürünler (iplik kılavuzları, subaplar, türbin vanaları v.b) elde edilir. Elde edilen ürünlerin boyut hassasiyeti iyidir. Kalıbın tasarımı ve parafin alma işlemleri önemli teknik noktalardır [4].
3.2.3. Doktor bıçağı yöntemi
Bu yöntemle elde edilen şeritler çok katmanlı çip kapasitörlerde ve termistör, ferrit, piezoelektrik gibi pasif elektronik bileşenlerde geniş ölçüde kullanılmaktadır [1]. Bu yöntemle hassas kalınlıklar elde edilebilir. Pişirme esnasında büzülme meydana gelmez. Bununla birlikte kullanılan ekipmanlar pahalıdır ve çok yer kaplarlar [4]. 3.2.4. Slip döküm
Slip döküm basit bir yöntem olup her boyut ve şekildeki parça üretimi için uygundur. Ancak, pişme esnasında çekme miktarı tipik olarak % 25–30 mertebelerindedir. Bu durum son ürünün boyut tahmininde güçlük yaratır. Ayrıca, birkaç aşama gerektiren yavaş bir prosestir [1].
3.2.5. Ekstrüzyon
Sütunsal veya tüp şeklinde uzun ürünler (yalıtım tüpleri, koruyucu tüpler, borular vb.) elde edilir. Kalıp tasarımı ve kurutma metodu önemli teknik noktalardır. Ürünlerde uzunluk sınırlaması yoktur ve sürekli üretim mümkündür [4] .
3.2.6. Sıcak-pres kalıplama
Yüksek mukavemet ve yoğunluk gerektiren ürünler (seramik takımlar, piezoelektrik maddeler vb.) elde edilir. Sinterlemeden sonra yoğunluk artar ve fiziksel özellikler iyileşir. Şekillendirmede büyük sınırlamalar vardır [4].